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葉金花/劉樂全/陳俊翔,最新ACS Catalysis!

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催化劑在光催化全面水分解(POWS)中具有重要意義。其中,Ni基共催化劑是替代Pt等代表性貴金屬的有吸引力的候選催化劑,但其穩(wěn)定性差、效率低。基于此,天津大學(xué)劉樂全副教授、日本國家材料研究所葉金花教授和中國科學(xué)院福建物質(zhì)結(jié)構(gòu)研究所陳俊翔副研究員等人報(bào)道了包裹在氮摻雜超薄石墨烯(NC)層中的Ni納米顆粒是一種活性、穩(wěn)定和低成本的POWS共催化劑。結(jié)果表明,Ni@NC/SrTiO3(STO)的析氫速率約為Ni/STO的3.2倍,甚至優(yōu)于典型Pt共催化劑。
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通過DFT計(jì)算,作者研究了Ni@NC石墨烯殼上的HER反應(yīng)。作者構(gòu)建了四種催化劑模型:Ni摻雜單層石墨烯(Ni@NC),Ni覆蓋單層石墨烯(Ni@C),裸Ni(Ni)和純C。
在DFT計(jì)算中,作者對每個(gè)結(jié)構(gòu)上大約700個(gè)位點(diǎn)進(jìn)行了單點(diǎn)能量計(jì)算,并選擇吸附較強(qiáng)的位點(diǎn)進(jìn)行詳細(xì)的結(jié)構(gòu)優(yōu)化,以確保覆蓋所有表面反應(yīng)活性位點(diǎn)。結(jié)果表明,活性位點(diǎn)的數(shù)量順序如下:Ni/STO>Ni@NC/STO>Ni@C/STO>C/STO,除Ni/STO外,均符合實(shí)驗(yàn)活動順序。
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當(dāng)Ni被NC包封時(shí),即在Ni@NC/STO中,O*和OH*的競爭吸附較弱,保證了H*位點(diǎn)的實(shí)際利用,具有較高的活性。C/STO的平均ΔGH*值在1.2~1.5 eV內(nèi),表明吸附較弱。當(dāng)Ni被引入或摻雜N時(shí),表面產(chǎn)生了許多高活性位點(diǎn),從而導(dǎo)致更強(qiáng)的吸附。
研究發(fā)現(xiàn),N對活性位點(diǎn)的徑向分布函數(shù)明顯高于普通位點(diǎn)的平均值。N與活性位點(diǎn)的強(qiáng)相關(guān)性證實(shí)了活性位點(diǎn)位于N附近,即N的引入在統(tǒng)計(jì)上增加了活性位點(diǎn)的數(shù)量。
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Ni Coated with N-doped Graphene Layer as Active and Stable H2 Evolution Cocatalysts for Photocatalytic Overall Water Splitting. ACS Catal., 2023, DOI: 10.1021/acscatal.3c03405.

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