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段曉光/朱成章Appl. Catal. B.:V2O5納米點(diǎn)修飾的層狀C3N4在太陽(yáng)光下可持續(xù)光降解阿莫西林

段曉光/朱成章Appl. Catal. B.:V2O5納米點(diǎn)修飾的層狀C3N4在太陽(yáng)光下可持續(xù)光降解阿莫西林
創(chuàng)新的太陽(yáng)能驅(qū)動(dòng)異質(zhì)結(jié)構(gòu)光催化劑有望去除水環(huán)境中有害的抗生素殘留。
基于此,澳大利亞阿德萊德大學(xué)段曉光教授和江蘇科技大學(xué)朱成章講師(共同通訊作者)等人報(bào)道了一種利用簡(jiǎn)便的方法制備了S-型五氧化二釩/石墨碳氮化物(V2O5/C3N4)異質(zhì)結(jié)。
段曉光/朱成章Appl. Catal. B.:V2O5納米點(diǎn)修飾的層狀C3N4在太陽(yáng)光下可持續(xù)光降解阿莫西林
S-型V2O5/C3N4異質(zhì)結(jié)構(gòu)提供了更大的表面積,促進(jìn)了載流子的分離和轉(zhuǎn)移,并為光催化氧化還原反應(yīng)提供了豐富的活性位點(diǎn)。
該復(fù)合材料在太陽(yáng)光下降解阿莫西林(AMX),獲得了較高的去除效率(91.3%)和穩(wěn)定性。同時(shí),通過(guò)HPLC-MS/MS分析和密度泛函理論(DFT)計(jì)算揭示了AMX的光降解途徑。
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通過(guò)電子自旋共振實(shí)驗(yàn)和選擇性自由基猝滅實(shí)驗(yàn)證實(shí),C3N4導(dǎo)帶產(chǎn)生超氧自由基,V2O5價(jià)帶產(chǎn)生氧化空穴。
S-型V2O5/C3N4 異質(zhì)結(jié)在界面處提供了一個(gè)內(nèi)部電子通道,并保持了具有高電位的活性位點(diǎn),用于光降解。該工作為可持續(xù)水凈化提供了強(qiáng)大的S-型4 S-型納米復(fù)合材料。
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V2O5 nanodot-decorated laminar C3N4 for sustainable photodegradation of amoxicillin under solar light. Appl. Catal. B Environ., 2021, DOI: 10.1016/j.apcatb.2021.120903.
https://doi.org/10.1016/j.apcatb.2021.120903.

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