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三院院士!Alexis T. Bell團隊最新Nature Energy

通訊作者介紹

三院院士!Alexis T. Bell團隊最新Nature Energy

Alexis T. Bell教授,現(xiàn)任加州大學伯克利分?;は礑ow Professor of Sustainable Chemistry,勞倫斯伯克利國家實驗室Faculty Senior Scientist,美國科學院院士、美國工程院院士、美國藝術(shù)與科學院院士、美國科學進步會會士、日本促進科學學會會士、俄羅斯科學院西伯利亞分院榮譽教授、中國科學院愛因斯坦講席教授。歷任加州大學伯克利分校化工系主任、化學學院院長等職務。此外,Alexis T. Bell教授是國際公認的在催化反應機制與動力學、原子和分子水平的催化活性中心表征研究的領導者,在2008年被提名為“百名現(xiàn)代化學工程師”(One Hundred Engineers of the Modern Era)之一。Bell課題組的主要研究方向為催化劑活性中心組份和結(jié)構(gòu)的識別,并對如何限制整體催化劑活性和選擇性的基本過程加以解釋。這些研究涉及到許多實驗和理論方法的應用,其中大部分是由Bell及其合作者提出的。他的主要研究重心為甲醇和乙醇氧化羰基化、烷烴氧化脫氫和烯烴的環(huán)氧化反應等。他還在生物質(zhì)轉(zhuǎn)化燃料和電化學CO2固定領域開拓了新的方向。

背景介紹

利用可再生能源產(chǎn)生電能對H2O和CO2進行電化學轉(zhuǎn)化,為將CO2轉(zhuǎn)化為增值化學品和燃料提供了一條可持續(xù)的途徑。銅(Cu)基催化劑是一種最有希望的CO2還原催化劑(CO2R)。研究發(fā)現(xiàn),Cu的表面結(jié)構(gòu)及其附近的微環(huán)境都會影響Cu生成C2+產(chǎn)物的活性和選擇性。通過重構(gòu)光滑表面或還原氧化銅或氮化銅產(chǎn)生的粗糙Cu表面有低配位位點,這些位點對形成C2+產(chǎn)物具有特別的活性和選擇性。雖然在高電解液pH下可進一步提高C2+產(chǎn)物的選擇性,但由于CO2與OH反應生成HCO3和CO32-,導致Cu表面附近的CO2濃度大幅降低。

此外,離子導電聚合物(離聚物)可以改變CO2、H2O、OH和H+的局部濃度,但離聚物對CO2R的影響知之甚少,并且對于離聚物膜如何影響CO2R的解釋也不一致。因此,有必要系統(tǒng)地了解離聚物層是如何通過改變背景電荷、反離子和離子交換容量等性質(zhì)來影響CO2R,從而調(diào)整Cu催化劑附近的化學微環(huán)境,以實現(xiàn)最佳C2+產(chǎn)物形成。

三院院士!Alexis T. Bell團隊最新Nature Energy

成果簡介

近日,美國加州大學伯克利分校Alexis T. Bell院士(通訊作者)等人報道了離聚物層可用于為Cu基催化劑上的選擇性生成C2+產(chǎn)物創(chuàng)造有利的微環(huán)境。為了充分闡明離聚物對局部Cu催化劑微環(huán)境的影響,作者使用雙層陽離子和陰離子導電離聚物涂層系統(tǒng)地探索和優(yōu)化了這種微環(huán)境,分別通過Donnan排斥控制局部pH值和通過離聚物特性控制CO2/H2O比值。當這種量身定制的微環(huán)境與脈沖電解相結(jié)合時,可以進一步提高局部CO2/H2O比值和pH值,從而選擇性地產(chǎn)生C2+產(chǎn)物。

實驗測定發(fā)現(xiàn),利用該策略使得法拉第效率(FE)達到了90%,而H2的FE僅為4%,比裸Cu上的靜電電解增加了250%。這些結(jié)果強調(diào)了調(diào)整催化劑微環(huán)境作為提高電化學合成整體性能的手段的重要性。

圖文解讀

離聚物涂層Cu對CO2R的影響

為了驗證所提出的微環(huán)境設計,作者將Nafion和Sustainion的離聚物層滴鑄到Cu膜上。作者測量了Nafion涂層銅(Naf1100/Cu)和Sustainion涂層銅(Sus/Cu)的催化性能,以確定離聚體層對Cu催化CO2R的活性和選擇性的影響。在-0.8至-1.15 V vs RHE下,H2的法拉第效率(FE)從20%抑制到9%,C2+產(chǎn)物的FE從60%提高到70%。由于與Cu表面接觸的水濃度按裸銅>Sus/Cu>Naf1100/Cu的順序降低,因此基于局部CO2濃度相對應的CO2/H2O比值,存在離聚物層時CO2R的局部電流密度表現(xiàn)出預期的行為。
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圖1.離聚物涂層Cu的形貌和成分分析
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圖2.離聚物涂層Cu的CO2R性能
電解質(zhì)陽離子的作用
作者在0.1 M的LiHCO3溶液中進行CO2R,以評估在離聚物層存在下電解質(zhì)陽離子對CO2R的影響。所有測試的Cu基催化劑表現(xiàn)出低很多的TCD和CO2R的選擇性。對比相應的Cs+交換材料,Li+交換的Naf1100/Cu和Naf850/Cu表現(xiàn)出更高的水濃度,但仍然遠低于裸Cu。局部CO2/H2O比值表現(xiàn)出類似趨勢,CO2/H2O比值以裸露Cu < Naf850/Cu < Naf1100/Cu < Sus/Cu 的順序增加。因此,改變陽離子增加CO2R活性的程度可能與局部CO2/H2O比值有關。
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圖3.離聚物涂層銅中陽離子對CO2R的影響
提高CO2R速率的原因
作者研究了不同離聚物層堆疊(即雙層薄膜)對Cu CO2R性能的影響。離聚物涂層不會顯著影響Cu的粗糙度,裸Cu和離聚物涂層Cu樣品的電化學表面積非常相似。當將Naf850/Cu轉(zhuǎn)變?yōu)镾us/Naf850/Cu時,TCD增加,但產(chǎn)物分布沒有明顯變化。在Sus/Cu(Naf850/Sus/Cu)添加Nafion導致C2+產(chǎn)物的FE從61%增加到80%,H2的FE從18%降為5%。在Sus/Naf850/Cu的情況下,對比Naf850/Cu,這些差異導致所有局部電流密度增加,而在Naf850/Sus/Cu的情況下,對比Sus/Cu結(jié)果,C2+產(chǎn)物的局部電流密度選擇性增加。
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圖4.堆疊離聚物層的影響
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圖5.離聚物增強CO2R的示意圖
脈沖電解改變微環(huán)境
脈沖電解和Naf850/Sus/Cu(Nafion作為最外層)之間存在明顯的復合效應:H2的FE在4%以下,C2+產(chǎn)物的FE提高到90%,TCD增加到12.1 mA cm-2。利用Sus/Naf850/Cu(Sus作為外層)進行脈沖電解會產(chǎn)生負面影響:H2的FE增加到20%,C2+產(chǎn)物的FE降低到50%以下,TCD保持不變。這些結(jié)果可以用脈沖對局部pH值和CO2濃度的影響來解釋。當Nafion位于外層時,增加的電流密度和C2+選擇性可歸因于內(nèi)部維持層中較高的CO2/H2O比值,以及由于空間電荷分布引起的OH捕獲而導致的較高的局部pH值,這兩者都通過脈沖電解得到增強。
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圖6.離聚物層和脈沖CO2電解的微環(huán)境之間的協(xié)同作用

文獻信息

Tailored catalyst microenvironments for CO2 electroreduction to multicarbon products on copper using bilayer ionomer coatings.Nature Energy, 2021, DOI: 10.1038/s41560-021-00920-8.

https://doi.org/10.1038/s41560-021-00920-8.

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