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蘭大?Nano-Micro Letters：蝕刻誘導的NiMoO4表面重構助力OER

析氧反應（OER）預催化劑的合理重構和OER催化劑的性能指標是實現(xiàn)通用水電解的關鍵，但也是一個挑戰(zhàn)。

基于此，蘭州大學高大強教授、Xia Baori（共同通訊作者）等人報道了一種雙陽離子刻蝕策略來調(diào)整NiMoO₄的電子結構，其中制備的NiMoO₄納米棒經(jīng)H₂O₂刻蝕后，其表面具有大量的陽離子缺陷和晶格畸變。

優(yōu)化后的樣品（MO-30M）在10 mA cm^-2下的過電位為260 mV，長期耐久時間為162 h。

對于OER的整個過程可以概括為四個基本反應步驟，包括三個關鍵中間體：*OH，*O和*OOH。不同中間體與反應路徑相關的優(yōu)化幾何模型，對應的能量分布不同。

NMO-V_NiMo的速率決定步驟（RDS）為*OOH到*O中間體的轉(zhuǎn)換，其能壘為2.07 eV，比NMO（2.83 eV）低。

對于*O + H₂O (l) ? *OOH + H⁺ + e^?，DFT計算得出的過電位為0.84 V，小于原始NMO。因此，RDS的降低有利于提高OER性能。

此外，NMO-V_NiMo中Ni d和O p的d-帶中心比NMO更接近費米能級，與NMO對氧中間體的強吸附有關。

在引入雙陽離子缺陷后，Ni d與O p能帶中心的能量差減小至1.690 eV，表明NMO-30M中Ni 3d-O 2p共價得到提升，導致OER過程中四個步驟電位降低。NMO-V_Ni和NMO-V_Mo的d-帶中心和能量差如圖所示。結果表明，NMO-V_Ni和NMO-V_Mo的結果都不如NMO-V_NiMo。

Etching-Induced Surface Reconstruction of NiMoO₄ for Oxygen Evolution Reaction. Nano-Micro Lett., 2023, DOI: 10.1007/s40820-022-01011-3.

https://doi.org/10.1007/s40820-022-01011-3.

原創(chuàng)文章，作者：Gloria，如若轉(zhuǎn)載，請注明來源華算科技，注明出處：http://www.xiubac.cn/index.php/2023/10/13/0bcc4ab9b2/

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