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?武大/南洋理工/蘇科大Chem:AC-Co1/PCNKOH高選擇性光催化氧化CH4為CH3OH

?武大/南洋理工/蘇科大Chem:AC-Co1/PCNKOH高選擇性光催化氧化CH4為CH3OH
通過打破單原子活性位點的結(jié)構(gòu)對稱性,光催化水氧化途徑被調(diào)節(jié)為水溶液中CH4光選擇性氧化為CH3OH。基于此,武漢大學(xué)翟月明教授、新加坡南洋理工大學(xué)劉彬教授和蘇州科技大學(xué)楊鴻斌教授(共同通訊作者)等人報道了氮化碳負(fù)載的對稱性配位單原子鈷(Co-4N)(記為SC-Co1/PCN)和氮化碳負(fù)載的非對稱性配位單原子鈷(Co-C2N2)(記為AC-Co1/PCNKOH)光催化劑,并研究了它們的水氧化性能及其對CH4光催化氧化的影響。AC-Co1/PCNKOH光催化氧化CH4制CH3OH選擇性達(dá)87.22%,而SC-Co1/PCN光催化氧化CH4選擇性僅為45%。此外,AC-Co1/PCNKOH(200 mg)的CH4轉(zhuǎn)化率為2.42%,而CH3OH收率為2.11%。
?武大/南洋理工/蘇科大Chem:AC-Co1/PCNKOH高選擇性光催化氧化CH4為CH3OH
為進(jìn)一步研究光催化氧化CH4的機(jī)理,作者進(jìn)行了電子順磁共振(EPR)測量,以檢測原位形成的自由基或*OH。當(dāng)將CH4引入光催化體系時,可以同時檢測到?CH3和*OH,表明制備的催化劑上的CH4光催化氧化以自由基為基礎(chǔ),其中有?CH3參與。需注意,AC-Co1/PCNKOH的?CH3自由基的強(qiáng)度比SC-Co1/PCN強(qiáng)得多,可以歸因于AC-Co1/PCNKOH吸附了更多的CH4。
?武大/南洋理工/蘇科大Chem:AC-Co1/PCNKOH高選擇性光催化氧化CH4為CH3OH
在反應(yīng)體系中加入清除劑KI或t-BuOH后,?CH3和*OH均消失,表明光生空穴對?CH3和*OH的生成都很重要。需注意,在反應(yīng)體系中引入KBrO3(一種電子清除劑)后,則?CH3的信號減弱,表明光生電子可以促進(jìn)CH4的吸附。此外,作者還發(fā)現(xiàn)光催化CH4氧化活性隨著不同清除劑的加入而降低,尤其是*OH等清除劑。因此,作者提出了AC-Co1/PCNKOH光催化劑光催化氧化CH4的機(jī)理。
?武大/南洋理工/蘇科大Chem:AC-Co1/PCNKOH高選擇性光催化氧化CH4為CH3OH
Asymmetrically coordinated cobalt single atom on carbon nitride for highly selective photocatalytic oxidation of CH4 to CH3OH. Chem, 2023, DOI: 10.1016/j.chempr.2023.02.011.
https://doi.org/10.1016/j.chempr.2023.02.011.

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