湖南大學(xué)尹雙鳳和陳浪等人報道Fe單原子有效地固定在WO2.72?x納米線的表面。單個Fe原子和WO2.72?x之間的電子相互作用導(dǎo)致d帶中心向費(fèi)米能級移動,從而增強(qiáng)N2與催化劑表面的鍵合。差分電荷密度和電子分布研究表明,從Fe-SA/WO2.72?x到吸附的N2的電子轉(zhuǎn)移增強(qiáng),表明Fe單原子是N2活化的活性中心。得益于電子相互作用,優(yōu)化后的催化劑在光催化N2還原過程中的NH4+生成率為186.5μmolg-1h-1。通過在WO2.72(010)的兩層1×1切片上構(gòu)建原子模型,使用密度泛函理論(DFT)模擬用于研究Fe單原子對WO2.72?x納米線的影響。對于Fe-SA/WO2.72?x,W的PDOS明顯與Fe的PDOS重疊,表明W和Fe原子的強(qiáng)相互作用。此外,由于WO2.72?x表面存在Fe單原子,在費(fèi)米能級附近產(chǎn)生雜質(zhì)能級,有利于光生電子激發(fā)到導(dǎo)帶,從而提高材料的光吸收能力。隨著Fe單原子的修飾,形成了一個新的d帶中心。計算結(jié)果表明,改性導(dǎo)致WO2.72?x材料的d帶中心從-2.58eV移動到-1.67eV,導(dǎo)致費(fèi)米能級以上的反鍵態(tài)增加,從而增強(qiáng)N2的吸附。此外,研究發(fā)現(xiàn)WO2.72、WO2.72?x和Fe-SA/WO2.72?x上的N2吸附位點(diǎn)不同,吸附能為0.167、-0.515和-0.878eV,表明N2在Fe-SA/WO2.72?x上的吸附是最有利的。Fe-SA/WO2.72?x與N2吸附的不同電荷密度清楚地表明N2分子從WO2.72?x獲得電子并被活化。此外,電子分布表明,當(dāng)Fe單原子錨定在WO2.72?x表面時,電子在Fe-O鍵上發(fā)生離域。這表示高共價性有利于界面電子的狀態(tài)轉(zhuǎn)變和電荷轉(zhuǎn)移的加速。以上結(jié)果表明,在Fe-SA/WO2.72?x表面和吸附的N2之間形成了一個電子轉(zhuǎn)移通道,使Fe單原子成為N2活化的活性位點(diǎn)。DFT進(jìn)一步計算NRR的吉布斯自由能圖。對于原始的WO2.72,最有利的方式是交替加氫方式,然而,氧空位和Fe單原子的引入使得混合機(jī)理成為可能。通常,吸附二氮的第一個質(zhì)子化步驟(即N2*→NNH*)被認(rèn)為是NRR中的限速步驟。顯然,由于N2的惰性和穩(wěn)定性,在原始WO2.72上能壘為1.67eV的N2*氫化為NNH*確實(shí)是限速步驟。然而,由于Fe-O-W位點(diǎn)在Fe-SA/WO2.72?x上的電子相互作用效應(yīng),吸附的N2(*N2)的化學(xué)鍵明顯減弱。加氫的能壘顯著降低,*N2→*N2H轉(zhuǎn)變的能壘降低到0.41eV。Biao Hu, Bing-Hao Wang et al. Electronic Modulation of the Interaction between Fe Single Atoms and WO2.72?x for Photocatalytic N2 Reduction. ACS Catal. 2022, 12, 11860?11869https://doi.org/10.1021/acscatal.2c03367